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Dissipatore Camera di Vapore in Alluminio ALVC

Dissipatore Camera di Vapore in Alluminio ALVC

Camere di vapore bifase ad alta efficienza in alluminio ultraleggero. Progettate per GPU, CPU, semiconduttori IGBT e sistemi di accumulo BESS.

La camera di vapore in alluminio ALVC combina la conducibilità termica estrema dei sistemi bifase (da 5.000 a 10.000 W/(m·K)) con la leggerezza dell'alluminio.

Rispetto alle convenzionali camere di vapore in rame, la tecnologia ALVC consente un risparmio di peso fino al 60% mantenendo identiche capacità di diffusione termica. È la soluzione d'eccellenza per veicoli elettrici, avionica e rack server compatti.

Specifiche Tecniche & Prestazioni

Tecnologia
Camera di vapore bifase in alluminio (Aluminum Vapor Chamber)
Conducibilità termica apparente
5.000 – 10.000 W/(m·K) (fino a 25 volte superiore al rame puro)
Riduzione peso
Fino al 60% più leggera rispetto alle camere in rame
Processo produttivo
Estrusione alluminio con sigillatura per attrito FSW
Fluido operativo
Acetone ad altissima purezza sotto vuoto spinto
Controllo perdite
Collaudo spettrometrico all'elio al 100% su linea continua
Campi d'applicazione
Automotive, e-mobility, data center, HPC, aerospazio

Profili Standard

Nome ComponenteSpessore
[mm]
Larghezza
[mm]
Lunghezza Raccomandata [mm]Raggio di Curvatura Min. (inner)Qmax [W]
MinMaxLongitudinalePlanareOrizz.Vert.
WW-T1.5W501.550150300R3—5~10~25
WW-T2.0W302.03070300R4R153~8~20
WW-T2.0W402.04070300R4—5~10~30
WW-T2.0W51.82.051.870300R4—7~15~45
WW-T2.0W602.06070300R4—8~15~50
WW-T2.0W99.52.099.570500R4—20~50~100
WW-T2.5W502.55070300R5—10~20~60
WW-T2.5W852.58570300R5—50~120~120
WW-T3.0W303.03070300R6R3030~80~150
WW-T3.0W403.04070300R6—30~100~200
WW-T3.0W503.05070300R6—30~100~250
WW-T3.0W953.09570400R6—30~120~350
WW-T3.0W1043.010470400R6—40~150~400